御微半導(dǎo)體首臺(tái)i6R-300掩模缺陷檢測產(chǎn)品成功發(fā)運(yùn)
2022年7月28日,御微半導(dǎo)體首臺(tái)全自動(dòng)掩模缺陷檢測設(shè)備i6R-300順利發(fā)運(yùn)國內(nèi)集成電路先進(jìn)制程生產(chǎn)線。
御微半導(dǎo)體自主研發(fā)的i6R-300掩模缺陷檢測設(shè)備是基于已被業(yè)界廣泛認(rèn)可i6R-100和i6R-200掩模缺陷檢測設(shè)備的進(jìn)一步升級(jí)開發(fā)。i6R-300采用高精度明暗場雙檢測系統(tǒng),可以快速高效地同時(shí)檢測光掩模多個(gè)表面上的細(xì)微缺陷,并提供缺陷分類、全景檢視等功能,為工藝過程控制提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)。為提高生產(chǎn)效率,i6R-300檢測設(shè)備滿足完整的SEMI 自動(dòng)化標(biāo)準(zhǔn),可靈活對(duì)接OHT和AGV等工廠自動(dòng)化工具。除檢測功能外,i6R-300還提供了光罩清潔和多類型掩模支持的一站式解決方案,能夠靈活滿足不同客戶工藝管控的需求。
御微半導(dǎo)體i6R-300掩模缺陷檢測設(shè)備
i6R-300是御微半導(dǎo)體推出的用于集成電路先進(jìn)制程領(lǐng)域的新一代掩模缺陷檢測設(shè)備,進(jìn)一步豐富了御微半導(dǎo)體現(xiàn)有的掩模檢測設(shè)備產(chǎn)品線。御微半導(dǎo)體將致力強(qiáng)化核心技術(shù),不斷提升研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造能力,持續(xù)以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和全面的服務(wù)為客戶創(chuàng)造價(jià)值。
關(guān)于御微
御微半導(dǎo)體是一家以市場和技術(shù)雙輪驅(qū)動(dòng),為集成電路制造提供先進(jìn)裝備的科創(chuàng)企業(yè)。公司面向集成電路制造、先進(jìn)封裝、化合物半導(dǎo)體、新型顯示等領(lǐng)域,為客戶提供具有競爭力的產(chǎn)品及技術(shù)解決方案。公司聚焦于集成電路光學(xué)量檢測系統(tǒng)設(shè)計(jì)與系統(tǒng)集成,圍繞集成電路裝備自主化,已經(jīng)形成了掩模版檢測、晶圓檢測、泛半導(dǎo)體檢測、晶圓測量等4大領(lǐng)域6大類量檢測產(chǎn)品。深耕技術(shù)實(shí)力、提高產(chǎn)品性能,豐富產(chǎn)品類型,促進(jìn)國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)健康快速發(fā)展,為客戶不斷創(chuàng)造價(jià)值。