近日，御微半導(dǎo)體首臺(tái)i6R-210掩模全景質(zhì)量管理產(chǎn)品成功發(fā)運(yùn)，并順利交付國(guó)內(nèi)先進(jìn)掩模版生產(chǎn)廠。本次發(fā)運(yùn)的i6R-210是御微首次推出的一款集缺陷檢測(cè)、雙面清潔以及倒版功能于一身的掩模全景質(zhì)量管理設(shè)備。

i6R-210產(chǎn)品作為御微i6R產(chǎn)品線的第三代產(chǎn)品，繼承了前兩代產(chǎn)品高產(chǎn)率、高精度明暗場(chǎng)檢測(cè)系統(tǒng)以及操作便捷等特點(diǎn)，通過(guò)多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)的導(dǎo)入和功能優(yōu)化，成功的將應(yīng)用場(chǎng)景從之前的晶圓廠黃光區(qū)延伸至光罩室，并拓展至掩模版生產(chǎn)廠。同時(shí)，憑借御微獨(dú)創(chuàng)的360°照明技術(shù)，i6R-210產(chǎn)品已逐步開(kāi)始建立掩模廠出貨檢和晶圓廠入庫(kù)檢的閉環(huán)管理統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)體系。

御微半導(dǎo)體i6R-210掩模全景質(zhì)量管理產(chǎn)品

在晶圓廠中，御微i6R-210產(chǎn)品可應(yīng)用于黃光區(qū)，在曝光前后進(jìn)行掩模質(zhì)量控制。相對(duì)于傳統(tǒng)的掩模版表面顆粒檢測(cè)方式，i6R-210產(chǎn)品可以檢出的缺陷類型更加全面可靠，以幫助客戶避免因某些特殊缺陷污染物的漏檢，而導(dǎo)致大批量的晶圓報(bào)廢。同時(shí)，在光罩室中，i6R-210產(chǎn)品可應(yīng)用于掩模版的入廠檢測(cè)及定期缺陷監(jiān)控，便于客戶進(jìn)行掩模版管理。

在掩模廠中，為滿足客戶對(duì)于目檢替代和出貨自動(dòng)化的需求，i6R-210加入了自動(dòng)倒版、掩模版雙面清潔等功能，盡可能避免了因人工干預(yù)而帶來(lái)的二次污染，減少客戶清洗掩模版的頻率，成功實(shí)現(xiàn)了圖形區(qū)以外所有區(qū)域全覆蓋的目標(biāo)。

i6R-210產(chǎn)品是御微在掩模全生命周期質(zhì)量控制產(chǎn)品線中重要的一環(huán)，將配合御微掩模檢測(cè)系列產(chǎn)品組成一站式掩模過(guò)程控制綜合解決方案。

未來(lái)，御微將持續(xù)加大研發(fā)投入、深入剖析客戶痛點(diǎn)和需求、不斷開(kāi)發(fā)出滿足客戶需求的新產(chǎn)品，以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和全面的服務(wù)為客戶創(chuàng)造更多價(jià)值，助力國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)健康發(fā)展。